B.Kühn, S.Kaiser, T.Miege, B.Uebbing, K.Mann
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"Minimizing Losses in Synthetic Fused Silica for Immersion Lithography"
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2007
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Absorptionsverlust, Polarisationsverlust
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S.Schröder, B.Kühn, A.Duparré, A.Tünnermann
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"Volumenstreuung von synthetischem Quarzglas bei 193 nm"
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2007
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Volumenstreuung @ 193nm
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D.Schönfeld, T.Reuter, R.Takke. S.Thomas
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"Stitching Oil-On Interferometry of Large Fused Silica Blanks"
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2006
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Interferometrische Vermessung großer Platten durch Zusammenfügen von kleineren Interferogrammen
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S.Schröder, B.Kühn, A.Duparré
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"Hochsensitive Bestimmung der Verluste von synthetischem Quarzglas für die 193nm Immersionslithographie"
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2006
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Volumenstreuung @ 193nm
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S.Franke, H.Lange, H.Schloepp, H.-D.Witzke
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"Temperature deopendence of VUV transmission of synthetic fused silica"
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2006
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Verschiebung der Bandkante bei Suprasil 2 mit der Temperatur
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S.Schröder, M.Kamprath, A.Duparré, A.Tünnermann, B.Kühn, U.Klett
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"Bulk scattering properties of synthetic fused silica at 193 nm"
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2006
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Volumenstreuung @ 193, 325, 532, 633nm
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B.Kühn, B.Uebbing, S.Schröder, A.Duparré, H.Nishimura, Y.Ikeda
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"Intrinsic Optical Properties of Synthetic Fused Silica for 193 nm Immersion Lithography"
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2006
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Volumenstreuung @ 193nm, Laserschädigung, Absolutbrechzahl
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P.Spanó, F.M.Zerbi, C.J.Norrie, C.R.Cunningham, K.G.Strassmeier, A.Bianco, P.A.Blanche, M.Bougoin, M.Ghigo, P.Hartmann, L. Zago, E.Atad-Ettedgui, B.Delabre, H.Dekker, M.Melozzi, B.Snÿders, R.Takke, D.D.Walker
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"Challenges in optics for Extremely Large Telescope instrumentation"
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2006
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Herausforderungen bei dem Bau von Optiken für ELT's
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B.Kühn, S.Kaiser, I.Radosevic, B.Uebbing, S.Thomas
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"Synthetic Fused Silica tailored for 193nm Immersion Lithography"
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2005
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Optimierung der Glaszusammensetzung hinsichtlich Kompaktierung und Polarisations- induzierter Doppelbrechung
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A.Schreiber, B.Kühn, E.Arnold, F.J.Schilling, H.-D.Witzke
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"Radiation resistance of quartz glass for VUV discharge lamps"
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2005
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Untersuchung von verschiedenen Quarzgläsern hinsichtlich Beständigkeit gegen 172nm Bestrahlung
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A.Schreiber, B.Kühn, E.Arnold, F.J.Schilling, H.-D.Witzke
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"Radiation Resistance of Quartz Glass for VUV Discharge Lamps"
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2004
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Untersuchung von verschiedenen Quarzgläsern hinsichtlich Beständigkeit gegen 172nm Bestrahlung
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B.Kühn, A.Schreiber, E.Arnold, H.-D.Witzke, F.-J.Schilling
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"Screening Test of Quartz Glass for 172nm Excimer Lamps"
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2004
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Untersuchung von verschiedenen Quarzgläsern hinsichtlich Beständigkeit gegen 172nm Bestrahlung
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B.Kühn, B.Uebbing, M.Stamminger, I.Radosevic, S.Kaiser
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"Compaction versus expansion behavior related to the OH-content of synthetic fused silica under prolonged UV-laser irradiation"
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2003
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Einfluß des OH Gehaltes auf das Kompaktierungs- / Dekompaktierungsverhalten
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D.Schönfeld, B.Kühn, W.Englisch, R.Takke
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"Interferometry at the physical limit : how to measure sub-parts-per-million optical homogeneity in fused silica"
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2003
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Temperatureinflüsse bei hochpräzisen interferometrischen Homogenitätsmessungen an Quarzglas
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B.Kühn
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"searching for degradation"
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2003
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Beurteilung der Beständigkeit von Quarzglas
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D.Schönfeld, B.Kühn, A.Steinert, R.Takke
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"How to measure sub-ppm optical homogeneity in fused silica: impact of temperature on accuracy and reproducibility"
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2001
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Temperatureinflüsse bei hochpräzisen interferometrischen Homogenitätsmessungen an Quarzglas
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H.-D.Witzke, A.Schreiber, U.Klett, B.Uebbing
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"172 nm Excimer lamp irradiation of F-doped SiO2-glasses with different pretreatments compared with pure and Cl-doped glasses"
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2001
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Beständigkeit von Lampenrohrmaterialien gegenüber 172nm Excimer Strahlung
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H.-D.Witzke
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"Recent studies on fused quartz and synthetic fused silica for light sources"
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2001
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Übersichtsartikel zu Effekten in Quarzglas beim Einsatz als Lampenmaterial
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B.Uebbing
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"Modification of fused silica for 157nm applications"
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2000
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Einfluß verschiedener Dotierungen auf die Transmission von Quarzglas im VUV. Beständigkeit gegen 157nm Laserstrahlung. Erreichbare optische Eigenschaften
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B.Uebbing, J.Vydra, St.Thomas, R.Takke
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"Modified fused silica for 157nm mask substrates"
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1999
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Transmission, Homogenität und Laserbeständigkeit von F-dotiertem synthetischen Quarzglas
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R.Takke
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"Excimer Lasers Challenge Glass Manufacturers"
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1999
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Image Artikel zu Suprasil KrF / ArF. Grundlegende Erklärungen
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H.-D.Witzke, R.Takke
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"Luminescence and ESR Properties of Ce/Ti-doped fused quartz
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1998
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Fluoreszenz und Transmission von Ce / Ti / Al dotierten Materialen in Abhängigkeit des Glühzustandes, sowie ESR Messungen
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V.Uhl, K.O.Greulich, St.Thomas
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"Comparison of the influence of the fictive temperature and the annealing temperature on the UV-transmission properties of synthetic fused silica"
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1997
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Einfluß der Glühung auf RDP, Tf, OH (Raman, IR), Fluoreszenz. Schädigungsmodell
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St.Thomas, B.Kühn
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"KrF Laser induced absorption in synthetic fused silica"
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1996
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Laserschädigung bei 248nm Messung und Modellierung
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R.Takke, R.Eckl, E.Bériot, A.Roussel
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"Optical fused quartz and fused silica for high energy lasers"
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1996
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Charakterisierung verschiedener Quarzgläser hinsichtlich ihrer Eignung für NIF, Megajoule
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E.Eva, K.Mann, St.Thomas
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"Pulse-length dependence of absorptance and degradation rate of fused silica at 248 nm"
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1996
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Abhängigkeit der Laserschädigung von der Pulsbreite (248nm, 7-70ns), Suprasil 312
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St.Thomas, W.Englisch, R.Takke
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"Effect of Excimer Laser Radiation on the Optical Properties of Synthetic Fused Silica"
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1994
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Einführung in die Laserschädigung durch 193 & 248nm Strahlung. Defektbanden und Modellbildung
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H.-D.Witzke, R.Takke, St.Thomas, W.Englisch
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"Absorption and Luminescence Properties of Ce/Ti-doped fused quartz"
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1994
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Fluoreszenz und Transmission von Ce / Ti / Al dotierten Materialen in Abhängigkeit des Glühzustandes, Bandenzerlegungen
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W.Englisch
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"Quarzglas für die Optik"
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1993
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Image Artikel zu Quarzglas - allgemeine Eigenschaften
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N.Leclerc, C.Pfleiderer, H.Hitzler, J.Wolfrum, K.O.Greulich, St.Thomas, H.Fabian, R.Takke, W.Englisch
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"Transient 210-nm absorption in fused silica induced by high-power UV laser irradiation"
|
1991
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Untersuchungen zum RDP, Abhängigkeit von der Wiederholfrequenz, Materialtyp (OH)
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N.Leclerc, C.Pfleiderer, H.Hitzler, J.Wolfrum, K.O.Greulich, S.Thomas, W.Englisch
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"Luminescence and transient absorption bands in fused SiO2 induced by KrF laser radiation at various temperatures"
|
1991
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Untersuchungen zum RDP, Abhängigkeit von Energiedichte, Temperatur
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J.Wolfrum, K.O.Greulich, R.Takke, R.Kunstmann
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"Lichtwellenleiter für Excimerlaser"
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1991
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Untersuchungen der Beständigkeit von Lichtwellenleitern aus verschiedenen Ausgangsmaterialien gegenüber Laserbestrahlung (248nm), Einführung in die Faserherstellung
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N.Leclerc, C.Pfleiderer, H.Hitzler, St.Thomas, R.Takke, W.Englisch, J.Wolfrum, K.O.Greulich
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"KrF excimer laser induced absorption and fluorescence bands in fused silica related to the manufacturing process"
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1990
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Untersuchungen der Beständigkeit bei 248nm an verschiedenen Ausgangsmaterialien (OH)
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W.Englisch
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"Space Optical Materials and Space Qualification of Optics"
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1989
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Verhalten verschiedener optischer Materialien unter Weltraumbedingungen
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W.Englisch, R.Takke
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"Ultra-Lightweight Quarzglass Mirror Blanks"
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1989
|
Gewichtsreduzierte Spiegelträger aus Quarzglas
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W.Englisch, K.Rau, F.Simmat
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"Massive and light-weight mirror blanks made from clear fused quartz for the DGT"
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1987
|
Studie für den Einsatz von Quarzglas als Spiegelträger beim DGT
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H.-D.Witzke (Übersetzer)
|
"Physikalisch-chemische Untersuchungen der Struktur und der Eigenschaften des Kieselglases"
|
1979
|
Ausführliche Datensammlung Quarzglas
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